Die Vergütung optischer Komponenten und Systeme mit dielektrischen Dünnschichtsystemen ist eine Grundvoraussetzung für innovatrive und erfolgreiche Produkte. Zur Auslegung und Dimensionierung ist die Berechnung und Simulation von Reflexions- und Transmissionseigenschaften von Substraten und Dünnschichtsystemen unerlässlich geworden.

Mit Matrixalgorithen kann das spektrale Verhalten für verschiedene Wellenlängen und Einfallswinkel berechnet werden. Mit den Softwarepaketen TFCalc und FilmStar lösen wir ihre Fragestellungen; von einfachen Schichtberechnungen über komplexere Aufgabenstellungen bis hin zu Optimierungsaufgaben oder Analysen bestehender Spektralkurven.

Im Rahmen von gemeinsamen Entwicklungsprojekten realisieren wir auch am MNT optische Dünnschichten und Dünnschichtsysteme. Zum Einsatz kommen dabei unterschiedliche Beschichtungsverfahren wie das Aufdampfen für Einzelschichten und einfache Antireflex- und Spiegelbeschichtungen. Mit unserer OPTIMA Beschichtungsanlage können wir auf kleinen Substraten dielektrische Mehrschichtsysteme mittels ionenunterstütztem Sputtern realisieren.

Ein weiteres interessantes Verfahren ist die PECVD-Abscheidung von Siliziumdioxid (SIO₂), Siliziumnitrid (Si₃N₄) und Oxinitriden (SiON) bei niederen Temperaturen.

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Eines unserer wichtigsten Diensleistungsangebote ist die Charakterisierung optischer Dünnschichten und Dünnschichtsystemen. Wir messen für Sie die wichtigsten Parameter Ihrer Einzelschichten: die Dispersionskurve (spektraler Brechzahlverlauf) die Materialdämpfung oder die mechanische Dicke Ihrer Schicht.

Auch die Dispersionskurve Ihrer Substratmaterialien sowie das spektralen Transmissions- und Reflexionsverhalten Ihrer Schichtsysteme können wir vermessen. Für diese Messaufgaben setzen wir einen Metricon-Prismenkoppler ein Reflexionsspektrometer sowie Spektralphotometer und optische Spektrumanalysatoren ein

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