Dünnschichtoptik

Dünnschichtsimulation

Die Vergütung optischer Komponenten und Systeme mit dielektrischen Dünnschichtsystemen ist eine Grundvoraussetzung für innovative und erfolgreiche Produkte. Zur Auslegung und Dimensionierung ist die Berechnung und Simulation von Reflexions- und Transmissionseigenschaften von Substraten und Dünnschichtsystemen unerlässlich geworden.

Mit Matrixalgorithmen kann das spektrale Verhalten für verschiedene Wellenlängen und Einfallswinkel berechnet werden. Mit den Softwarepaketen TFCalc und FilmStar lösen wir ihre Fragestellungen; von einfachen Schichtberechnungen über komplexere Aufgabenstellungen bis hin zu Optimierungsaufgaben oder Analysen bestehender Spektralkurven.

Dünnschichtherstellung

Im Rahmen von gemeinsamen Entwicklungsprojekten realisieren wir auch am MNT optische Dünnschichten und Dünnschichtsysteme. Zum Einsatz kommen dabei unterschiedliche Beschichtungsverfahren wie das Aufdampfen für Einzelschichten und einfache Antireflex- und Spiegelbeschichtungen. Mit der Beschichtungsanlage Radiance SPM von Evatec können wir auf Substraten dielektrische Mehrschichtsysteme realisieren.

Ein weiteres interessantes Verfahren ist die PECVD-Abscheidung von Siliziumdioxid (SIO2), Siliziumnitrid (Si3N4) und Oxinitriden (SiON) bei niederen Temperaturen.

Dünnschichtanalytik

Eines unserer wichtigsten Diensleistungsangebote ist die Charakterisierung optischer Dünnschichten und Dünnschichtsystemen. Wir messen für Sie die wichtigsten Parameter Ihrer Einzelschichten: die Dispersionskurve (spektraler Brechzahlverlauf) die Materialdämpfung oder die mechanische Dicke Ihrer Schicht.

Auch die Dispersionskurve Ihrer Substratmaterialien sowie das spektrale Transmissions- und Reflexionsverhalten Ihrer Schichtsysteme können wir vermessen. Für diese Messaufgaben setzen wir einen Metricon-Prismenkoppler (M-Line Spektroskopie) ein Reflexionsspektrometer sowie Spektralphotometer und optische Spektrumanalysatoren ein.

Messverfahren