PVD Bedampfungstool BAK 600

Bedampfen:Verschiedenste Materialien mittels Elektrohnenstrahl oder aus Schiffchen
Vorbereitung:Substrateaktivierung / Vorreinigung durch O2-Glimmen möglich
Materialien:Cu, Au, Ag, Ti, Cr, Ta, Pt, Al, Ni, SiO2, Al2O3, Si, Nb
Substratgrössen:100 mm Wafer max. 18 Stück/Run, 150 mm Wafer max. 4 Stück/Run, 200 mm Wafer max. 3 Stück/Run, spezielle Substrate flexibel auf Kalotte montierbar
Substratmaterialien:Glas, Silizium, Keramiken, Metalle, Kunststoffe (auf Anfrage)